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珀金埃爾默PE Optima ICP-OES 8300 電感耦合等離子體發射光譜儀
各個實驗室對利用 ICP 的定義均大不相同。但是,無論您優先考慮的是精密度還是可靠性、是靈活性還是穩定性、是分析速度還是使用的簡便性,您都可以在 Optima 8300系列中找到理想的解決方案。
珀金埃爾默PE Optima ICP-OES 8300 電感耦合等離子體發射光譜儀
主要技術指標:
1.光學系統:單色器:恒溫驅氣型中階梯光柵;光室:恒溫±0.1℃;波長范圍:163-782nm;光學分辨率:≤0.006nm(200nm處)。
2.檢測器:雙SCD固體檢測器,高效半導體制冷,溫度:≤40℃。
3.等離子體系統:觀測方式:雙向觀測;RF發生器:水冷式固態發生器,輸出功率為750W-1500W,1W增量可調;頻率:40.68MHZ,功率穩定
性優于0.1%,傳輸效率優于80%;空氣切割去除尾焰。
4.樣品導入系統:霧化器:十字交叉霧化器和同心霧化器;霧化室:旋流霧化室;蠕動泵:4通道蠕動泵,泵速0-125rpm連續可調;氣路控制三
路質量流量計,霧化氣0.01L/min遞增,輔助氣0.1L/min遞增,保護氣1.0L/min遞增。
5.分析速度:每50秒可測定68元素或譜線而且每條譜線積分時間大于10秒。
6.樣品消耗量:一次進樣消耗約為1.8mL。
7.線性動態范圍:≥106 (以Mn257.6nm來測定,相關系數≥0.9999)。
8.精密度:測定1mg/L或10mg/L多元素混合標準溶液,重復測定10次的RSD≤0.5%。
9.穩定性:測定1mg/L或10mg/L多元素混合標準溶液,連續測定4小時的長時間穩定性RSD<2.0%.
珀金埃爾默PE Optima ICP-OES 8300 電感耦合等離子體發射光譜儀
儀器特點
使用平板等離子體技術降低氬氣消耗
利用 PerkinElmer zhuan利的平板等離子體技術,氬氣消耗只有螺旋負載線圈系統的一半,即可形成同樣強健、同樣耐高鹽基體的等離子體。這種全
新的射頻發生方式,可使射頻發生器免維護,從而大程度上降低操作成本,同時不影響性能。平板等離子體技術在任意RF功率下只需 8 公升/
分鐘的等離子體氣流量。
使用 eNeb 樣品導入系統可實現 2 到 4 倍的更佳檢出限
使用革新的 eNeb(電子噴霧器)系統,樣品可更有效、更高效地導入 Optima 中。基于精密制造的惰性噴霧頭,eNeb 可形成直徑
不超過 6 微米的大小一致的液滴。這些大小一致的小液滴可更快速地干燥、霧化和電離,達到的檢出限比使用其他樣品導入系統可達到的檢出限
好 2 到 4 倍。
eNeb 的噴霧頭采用堅固耐用的惰性聚合物制成,提供良好的基體相容性、耐酸性和精確性,是所有樣品類型(包括含有高鹽的樣品類型)的理
想選擇。
高級光學系統確保良佳的檢出限
為了增強光輸出量,Optima 儀器上的光學系統提供良佳的檢測限,更容易滿足美國 EPA、EN 和 DIN 規定。使用熱穩定光學系統(型號 8300)
可確保非凡穩定性和分析準確性。
zhuan利的等離子雙向觀測提高效率
可以使用同一種方法測量高濃度和低濃度的元素,從而提高處理量和效率。
軸向觀測提供低的檢出限,而徑向觀測的觀測高度可變,可擴充工作范圍和消除電離效應。
特別的切割氣消除了干擾
這項革新技術通過消除離子的冷尾焰消除了干擾。由于它使用的是空氣,而不是氣體流量極大的抽風系統或者易于阻塞需要清洗的接口錐,尾焰
切割系統免維護,可提高性能并使線性動態范圍更大。消除尾焰也從大程度上降低了添加昂貴的電離抑制劑的需要。
可快速更換的可調節一體化炬管組件可簡化維護并優化性能
Optima 一體化炬管組件易于調節(無需工具),即使當 ICP 在運行時也如此,便于優化性能,甚至是對于最難的樣品亦如此。為增加靈活性,
該儀器與各種噴霧器和噴霧室兼容,包括 eNeb、Scott/Cross Flow 和 Cyclonic/
Meinhard™ 多種選擇
兩個高性能 SCD(譜線分隔式電荷耦合器件)檢測器增強準確性
Optima 8300 上的檢測器可在整個波長范圍內提供良佳的分辨率和性能(一個檢測器用于 UV,另一個檢測器用于 Vis),從而降低干擾和增強
準確性。
珀金埃爾默PE Optima ICP-OES 8300 電感耦合等離子體發射光譜儀
服務項目:
1. ICP-OES可以分析元素周期表中所有金屬元素,以及大部分非金屬元素,如As、Se、P、S、Si、Te等(但鹵素元素不能測定)。
2. 適用于化工、材料、冶金、食品、輕工、環境、生物等各行業的各類樣品中金屬和非金屬元素含量的測定。
3. 樣品上機一般要求為酸性水溶液樣品,其它樣品可以通過消解等手段將樣品轉化為溶液樣品也可測定。
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